半導體烤箱SEO係列

型號:SEO-100N

半導體(tǐ)充氮烤箱通用性強,具有高穩定性和高性能,采用高(gāo)容量水平空氣再循環(huán)係統,采用(yòng)專有的腔室結構和密封(fēng)技術,具有出色的氣密性和溫度(dù)均勻性,滿足半導體產品高性能要求。此(cǐ)烤箱適用於固化半導體晶圓、IC封裝(銅基(jī)板,銀膠,矽膠,環氧樹(shù)脂)、玻璃基板等產品烘烤。

半導(dǎo)體烤(kǎo)箱產品特點:


1、 高容量水平空氣再循環熱風係(xì)統可實現高性能溫度均勻性;

2、 內材質采用不鏽鋼板,整個內腔全密封設計,防止空氣進入箱體內,同時節(jiē)省氮氣(qì)使用;

3、 采用大功率耐高溫長軸馬達,大尺寸渦輪扇葉,可以高溫環境下長期穩(wěn)定工作;

4、 升(shēng)溫速率可控(kòng),設定工藝(yì)曲線,一鍵運行,冷卻係統輔助降溫(wēn),可有效提高生產效率;

5、 高精度溫度控製器,PID調節(jiē),控製精度可達到0.5℃,控製可靠,使用(yòng)安(ān)全;

6、 高效潔淨處理,千級潔淨室老化測試,滿(mǎn)足半導(dǎo)體無塵車間及產品要求;

7、 箱(xiāng)體內低氧含量控(kòng)製,實時顯示,雙通道分析係統,氧含量可控製在(zài)100PPM以內.




型號SEO-100N
箱體部分
箱(xiāng)體工作尺寸L700*W550*H(600*2)mm
箱體數量及工作方式兩箱體,每個箱體可獨立運行
熱風係統熱風(fēng)循環係統,風速風量可調
冷卻係統水冷循(xún)環係統,按客戶車間冷卻水
氮氣係統配置流量計、氧分儀,實時顯示氧含量
內部配置配(pèi)置4個不鏽(xiù)鋼支層架,層架間距可調節
控製部分
溫度工作範圍室溫+10℃~250℃
溫度控製方式PID閉環控製+SSR驅動
控製係統PC+PLC電氣控製係統,Windows操作(zuò)界麵
控溫精度±0.5℃
溫度均勻性(xìng)±2%℃(空載)
升溫速率(lǜ)≥5℃/min
降溫速率(lǜ)2-5℃/min
加熱功率10KW*2
含氧量控製≤500PPM(選配(pèi):≤100PPM)
使用電壓AC3Ø  5W  380V50/60HZ
總功(gōng)率21KW
MES通訊協議標配
潔淨等級1000
機體(tǐ)參數
外形尺寸(LxWxH)L1700*W1200*H1800mm
重量500-800kg
外觀顏色光亮皺紋白
備注:各(gè)種氮氣或真空(kōng)烤箱可定製


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